Conditionneur de pad Diamond Disc 3M™
- 3M ID B5005035338
Détails
Descriptions
- Améliore la durée d'utilisation des pads et des disques
- Une durée de vie plus longue des pads et des disques permet aux clients de réduire le nombre d'arrêts pour entretien, permettant de réduire le coût de production
- Excellente rétention des diamants grâce à un procédé d'assemblage mécano-chimique
- Un substrat en polymère exclusif améliorant la résistance à la corrosion
- Personnalisable en fonction de l'agressivité du conditionnement
- Les spécifications strictes de planarité des disques 3M améliorent l'uniformité de l'usure des pads
- Compatible avec tous les revêtements pour conditionneurs de pad CMP 3M™, sans modification majeure du procédé
- Pour les procédés sensibles aux métaux, à combiner avec les revêtements pour conditionneurs de pad CMP 3M™
Les conditionneurs Diamond Disc 3M™sont des conditionneurs de pad de planarisation chimico-mécanique (CMP) haute technologie qui offrent des performances fiables pour les applications critiques de semi-conducteurs CMP.
Pour les procédés sensibles aux métaux, les revêtements pour conditionneurs de pad CMP 3M™ peuvent être appliqués en usine sur les conditionneurs de pad Diamond Disc 3M™. Ces revêtements ultrafins sont utilisés dans les procédés à nœuds avancés ou matures sensibles aux métaux, ou avec des slurries très agressifs couramment utilisés dans les procédés au tungstène ou au carbure de silicium. Ils nécessitent peu de modifications du procédé et permettent de réduire jusqu’à 99 % la contamination métallique, tout en préservant la planéité, l’agressivité et l’efficacité du polissage.
Spécifications
Ressources
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